【曝光机的形成原理及工作流程】曝光机是半导体制造、印刷电路板（PCB）制造等领域中不可或缺的关键设备，主要用于将设计好的图案通过光刻技术转移到涂有光刻胶的基材上。其核心功能在于精确控制光线照射，实现高精度的图形转移。
一、曝光机的形成原理
曝光机的形成基于光学投影与光化学反应的基本原理。其主要组成部分包括光源系统、光学透镜组、掩模版（Mask）、基板承载平台以及控制系统等。在工作过程中，光源发出的光经过透镜系统聚焦后，通过掩模版上的图形结构，将图案投影到涂有光刻胶的基板上。光刻胶在受到特定波长的光照后发生化学变化，从而实现图案的转移。
二、曝光机的工作流程
曝光机的工作流程可以分为以下几个步骤：
| 步骤 | 操作内容 | 说明 |
| 1 | 基板准备 | 将涂有光刻胶的基板固定在载台上，确保表面清洁无杂质 |
| 2 | 掩模版安装 | 将带有目标图案的掩模版放置于曝光机内，对齐并固定 |
| 3 | 光源启动 | 启动紫外光源或深紫外光源，调节输出强度与波长 |
| 4 | 图案对准 | 通过光学对准系统调整掩模版与基板的位置，确保图像准确重合 |
| 5 | 曝光操作 | 控制光源照射时间，使光刻胶按照掩模版图案进行曝光 |
| 6 | 曝光后处理 | 关闭光源，移除基板，进行显影、蚀刻等后续工艺 |
三、总结
曝光机是现代微电子制造中的核心技术设备之一，其原理基于光学成像与光化学反应，通过精密的机械与光学系统，实现高分辨率的图形转移。从基板准备到最终图案曝光，整个过程需要高度自动化与精准控制，以确保产品的良率和性能。随着半导体技术的不断发展，曝光机也在向更高精度、更高速度的方向演进。
